氧化錫銦（ITO或者摻錫的氧化銦）是氧化銦(III) (In2O3)和氧化錫(IV) (SnO2)的混合物，按重量算，一般是90%的氧化銦In2O3和10%的氧化錫SnO2。
粉末狀的氧化錫銦（ITO）為黃綠色，但當它被沉積成厚度為1000 – 3000埃的薄膜時是透明的。當它沉積為玻璃或透明塑料上的薄膜時，其功用就是透明導電體。?
氧化錫銦（ITO）一般通過物理氣相沉積工藝進行沉積，如直流磁控濺射或電子束沉積。另外的做法是將氧化錫銦（ITO）用恰當?shù)某赡じ叻肿訕渲腿軇┫到y(tǒng)融入墨水，用絲網(wǎng)印刷來沉積——這樣做的透明度和導電率比物理沉積工藝低。
在透明導電氧化物（TCO）中，氧化錫銦（ITO）是公認的最佳TCO。它具有非常優(yōu)異的導電性、透明度和穩(wěn)定性，并且容易形成圖案從而用于制作透明電路。氧化錫銦（ITO）被用于多種顯示技術(shù)，例如LCD、OLED、等離子體、電致發(fā)光和電致變色顯示器，以及大量的觸摸屏技術(shù)。?
這種多用途的材料功用不僅限于此，它還被應用于抗靜電銦錫氧化物涂料、電磁（EMI）屏蔽、光伏太陽能電池、飛機擋風玻璃、冷凍箱玻璃除霧等技術(shù)中。氧化錫銦（ITO）的應用還包括紅外反射涂層，可以用在諸如低輻射玻璃和低壓鈉燈中反射熱能。
如您想進一步了解氧化錫銦（ITO）產(chǎn)品及氧化錫銦（ITO）涂層工藝，請聯(lián)絡(luò)我們詳談。